티타늄 스퍼터 타겟
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티타늄 스퍼터 타겟

제품 이름: 티타늄 스퍼터 표적
재료:
2. 순수 티타늄 : GR1 GR2
2. 티타늄 합금 : Gr5 티타늄, 티타늄 알루미늄 TiAl, 티타늄 니켈 TiNi, 티타늄 크롬 TiCr, 티타늄 지르코늄 TiZr, 구리 티타늄 TiCu 등
순도 99.5%, 99.95%, 99.98%, 99.995%.
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Product Introduction
제품 이름: 티타늄 스퍼터 표적
재료:
2. 순수 티타늄 : GR1 GR2
2. 티타늄 합금 : Gr5 티타늄, 티타늄 알루미늄 TiAl, 티타늄 니켈 TiNi, 티타늄 크롬 TiCr, 티타늄 지르코늄 TiZr, 구리 티타늄 TiCu 등
순도 99.5%, 99.95%, 99.98%, 99.995%. 문의 보내기 제품 소개

Gr1 Gr2 TiAl TiCr TiCu T이타늄 스퍼터 타겟


티타늄 타겟 / 티타늄 스퍼터 타겟이 널리 사용됩니다 : 전자 부품 (예 : 일반 CD 스토리지), 반도체 다이오드, 컴퓨터 모니터 액정 필름 나노 물질, 군사 항공 우주 및 기타 정밀 제품의 경우 내식성 및 내마모성을 달성하기 위해 표면에 필름 층을 코팅해야합니다. 목적, 필름의 두께가 미크론 및 나노 미터 수준에있을 때, 전통적인 코팅 기술은 분명히이 정밀도를 달성 할 수 없습니다.


제품 이름:티타늄 스퍼터 타겟, TiAl 스퍼터링 타겟, TiCr 스퍼터링 타겟, TiCu 스퍼터링 타겟, TiSi 스퍼터링 타겟, 지르코늄 스퍼터링 타겟,크롬 스퍼터링 타겟,몰리브덴 스퍼터링 타겟


재료:Gr1 Gr2 Gr5 티타늄, TiAl, TiCr, TiCu, TiSi, Mo, Cr 등


의 일반적인 크기 티타늄 스퍼터 타겟:Φ100 * 40, Φ98 * 40, Φ95 * 45, Φ90 * 40, Φ85 * 35, Φ65 * 40 등

또한 고객의 요구나 그림에 따라 주문을 받아서 만들어질 수 있습니다


목표 요구 사항:고순도, 균일 한 크리스탈 그레인 및 우수한 소형화.

titanium sputtering targets65 

진공 코팅의 원리 :

저전압 및 고전류 이온 소스에 의해 생성 된 이온은 진공에서 가속되어 고속 이온 스트림을 형성하고, 고체 표면을 폭격하고, 고체 표면의 이온과 원자 사이의 운동 에너지를 교환하여 고체 표면의 원자가 표적을 떠나 기판 표면에 증착되도록합니다. 나노미터(또는 마이크로미터) 필름의 형성. 폭격 된 고체는 스퍼터링에 의한 박막 증착을위한 원료이며, 이는 스퍼터링 재료라고합니다. 따라서 대상은 소모품입니다.


Ti factory 9

Baoji Lihua 비철 금속 Co., 주식 회사2006 년에 설립 된 수출입 회사로 "중국의 티타늄 밸리"로 알려진 Baoji City에 위치하고 있습니다. 생산 및 수출 경험의 15 년으로, 회사는 ISO 9001 : 2015에 의해 인증되고, 우리의 제품의 대부분은 TUV, BV, SGS tec과 같은 타사 인증을 통과했습니다. 티타늄 스퍼터링 타겟은 국제 표준 또는 고객 요구 사항 및 도면에 따라 생산됩니다. 표면은 껍질, 접힘, 모공, 균열 및 기타 결함없이 깨끗하고 매끄럽고 화학적 구성과 물리적 특성이 좋습니다. 품질이 수출 표준에 도달했습니다.


패킹:

각 스퍼터링 타겟은 진공 포장되어 있으며 외부는 표준 수출 합판 케이스에 포장되어 있습니다.

Titanium Sputtering Targets  (32)

our advantagementlihua titanium rod  (1)

언제든지 저희에게 연락하는 환영!

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