Cátodos de titanio para sputtering
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Cátodos de titanio para sputtering

Nombre del producto: Cátodos de titanio para sputtering

Material: Titanio (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7,GR12)

Blanco de aleación: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr, etc.

Otros materiales: cromo, circonio, cobre, tungsteno, etc.

Forma:Blanco redondo

Tamaño:Ø30--2000mm, espesor 3.0mm--300mm;

O como dibujos de los clientes

MOQ:10PCS

Área de la fábrica:3000 ㎡

Personal de la empresa:48

Personal de servicio del equipo de comercio exterior:20

Fabricante profesional de China de blancos de titanio para sputtering.


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Product Introduction

Según el principio de funcionamiento, los cátodos para sputtering pueden dividirse en cátodos giratorios, cátodos planos y cátodos multiarco.


Se puede dividir en cátodos de metales no ferrosos puros, titanio puro Ti, níquel puro Ni, cromo Cr, niobio Nb, aluminio Al, molibdeno Mo, según el material. Los cátodos para sputtering que podemos suministrar son: cátodos de aleación, aluminio circonio ZrAl, níquel cromo NiZr, aluminio titanio TiAl, níquel titanio TiNi, níquel cromo NiCr, cobre titanio TiCu, etc. La proporción de metal del blanco de aleación es de aleación de titanio-aluminio como ejemplo: 50:50wt% relación de masa, 80:20at% relación atómica.


Nombre del producto: cátodos de titanio para sputtering

Pureza: 99,5%, 99,95%, 99,98%, 99,995%.

Tamaño: diámetro 300*40mm, diámetro 300*25mm, diámetro100*40mm, diámetro 99*40mm, diámetro 65*40mm, etc. O según los planos del cliente.


Material:

1. Titanio puro: GR1 GR2

2. Aleación de titanio: Titanio Gr5, titanio aluminio TiAl, titanio níquel TiNi, titanio cromo TiCr, titanio circonio TiZr, titanio cobre TiCu, etc.

3. Otros materiales: Cátodos para sputtering de circonio, cátodos para sputtering de cromo, cátodos para sputtering de tungsteno, cátodos para sputtering de cobre, etc.

4. Aplicaciones: Recubrimiento decorativo, recubrimiento de herramientas de hardware, semiconductores, pantallas planas.

Características: Precio competitivo, Alta pureza, Grano refinado, Microestructura de ingeniería

(tamaño medio de grano < 20 um),Grado semiconductor



Imágenes detalladas:

 TiSputtering Targets


El revestimiento al vacío (un método para hacer una película sobre un sustrato al vacío) puede cumplir este requisito de precisión.


Ventajas del revestimiento al vacío 1. Este proceso no produce aguas residuales industriales, gases residuales, o residuos de residuos, y tiene grandes ventajas ambientales; 2. Este proceso es una reacción física (PVD deposición física de vapor), que no dañará el producto Material y rendimiento original; 3. Dado que el espesor de la película producida es micras nanómetro nivel, y el espesor de la película es uniforme, no dañará la apariencia y el tamaño del producto, y la precisión es extremadamente alta.


Acerca de nuestra empresa:

our companyBaoji Lihua titanium factory

 

our advantagementlihua titanium rod  (1)



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